一、工艺流程:
①银白料及银白电泳料氧化：
上架——水洗——低温抛光——水洗——水洗——钳料——氧化——水洗——水洗——水洗——封孔——水洗——水洗——下架——风干——检验
进入电泳工序
——包装
②磨砂料及磨砂电泳料氧化：
上架——除油——水洗——酸蚀——水洗——水洗——碱蚀——水洗——水洗——中和出光——水洗——水洗——钳料——氧化——水洗——水洗——水洗——封孔——水洗——水洗——下架——风干——检验——包装
进入电泳工序
③着色料及着色电泳料氧化
上架——水洗——低温抛光——水洗——水洗——钳料——氧化——水洗——水洗——水洗——着色——水洗——水洗——封孔——水洗——水洗
检验 进入电泳工序
——下架——风干——检验——包装
二、上料：
①型材上料前应将吊杆接触面打磨干净，并按标准支数上料，其计算公式：上料支数= 标准电流 标准电流密度×单支型材面积
②上架支数的考虑原则：
a、硅机容量利用率不大于95%；
b、电流密度取1.0—1.2A/dm;
c、型材形状和两支型材之间留必要的间隙；
③氧化时间的计算：氧化时间（t）= 膜厚 K·电流密度 K 为电解常数，取0.26—0.32，t单位为分钟；
④上排时必须按照《型材面积及上排支数表》规定的支数上架；
⑤为了便于排液和排气，上排捆扎时应倾斜，倾斜度5°为宜；
⑥两端可超出导电杆10—20mm，最多不得大于50mm。
三、低温抛光工艺
①低温抛光槽中低温抛光剂浓度控制为总酸25—30g/l，最低≥15 g/l；
②抛光槽温20-30℃不得低于20℃，抛光时间90—200s；
③提架倾斜，滴净残液后，迅速放入清水槽中漂洗，经两道水洗后迅速放入氧化槽氧化，在水槽中停留时间不应大于3分钟；
④低温抛光材料在抛光前不得进行其它方式的处理，也不能将其它槽液带入抛光槽中。
四、除油工艺；
①在室温酸液中进行，时间2—4分钟，H2SO4浓度140-160 g/l；
②提架倾斜滴净残液后，放入清水槽中清洗1-2分钟。
五、磨砂（酸蚀）工艺
①除油后在清水槽清洗再进入酸蚀槽；
②工艺参数：NH4HF4浓度30-35 g/l，温度35-40℃，PH值2.8-3.2，酸蚀时间3-5分钟；
③酸蚀结束后经两道水洗再进入碱蚀槽。
六、碱洗工艺
①工艺参数：游离NaOH 30-45 g/l，总碱50-60 g/l，碱蚀剂5-10 g/l，AL3+ 0-15 g/l，温度35-45℃，砂料碱蚀时间30-60秒；
②提架倾斜，滴净溶液后迅速放入清水槽中清洗干净；
③检查清洗后的表面质量，当无腐蚀斑纹，无杂物、凝附表面现象，即可进入出光工序。
七、出光工艺
①工艺参数：H2SO4浓度160-220 g/l,HNO3适量或50 g/l -100 g/l，温度室温,出光时间2-4分钟；
②提架倾斜滴净残液后迅速放入清水槽中1-2分钟，再放入第二清水槽1-2分钟；
③两次清洗完毕后，应钳紧扎架上的铝线，以保证氧化过程的良好接触。普通料钳紧扎架一端铝线，着色料、电泳料应钳紧扎架的两端铝线。
八、氧化工艺
①工艺参数：H2SO4 浓度160-175 g/l，AL3+≤20 g/l，电流密度1-1.5A/dm，电压12-16V, 氧化槽温度18-22℃,按计算公式求得通电时间。氧化膜规定：银白料3-4μｍ,白砂4-5μｍ，电泳7-9μｍ;
②阳极架应平稳放入导电座中，检查并确认型材与阴极板无接触时，可通电氧化;
③氧化结束将阳极杆吊离液面倾斜并滴净残液，转入清水池清洗2分钟;
④对不着色的型材可进入<
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